検索対象:     
報告書番号:
※ 半角英数字
 年 ~ 
 年
検索結果: 3 件中 1件目~3件目を表示
  • 1

発表形式

Initialising ...

選択項目を絞り込む

掲載資料名

Initialising ...

発表会議名

Initialising ...

筆頭著者名

Initialising ...

キーワード

Initialising ...

使用言語

Initialising ...

発行年

Initialising ...

開催年

Initialising ...

選択した検索結果をダウンロード

報告書

原子力関係材料の電子線照射効果に関する基礎研究

蔵元 英一*; 阿部 博信*; 大沢 一人*; 竹中 稔*; 長谷川 信; 平野 耕一郎

JNC TY9400 2000-007, 50 Pages, 2000/03

JNC-TY9400-2000-007.pdf:1.29MB

本報告書は、九州大学応用力学研究所と核燃料サイクル機構が、「原子力関連材料の電子線照射効果に関する基礎研究」に関して、共同で実施した研究成果をとりまとめたものである。本研究の目的は、原子炉中性子などの照射環境下で使用される原子力関連材料(鉄銅合金他)の特性変化の基礎過程を明らかにするために、これらの材料に対する電子線照射効果を実験的手法および計算機シミュレーションなどを通してその基礎的側面から解明していくことである。高純度の鉄中における照射欠陥と銅原子の相互作用に関して、電気抵抗測定、陽電子消滅寿命測定などからそのミクロ過程に関する情報が得られた。すなわち照射で導入された原子空孔、格子間原子と強い相互作用を有して等時焼鈍回復過程に大きな影響を与えることが判明した。このことは銅原子の照射促進析出に繋がるものとして重要な結果である。また、種々の欠陥集合体に関する計算機シミュレーションをモデル結晶中で行い、その原子構造、動的挙動、転位との相互作用などに関する情報が得られた。格子間原子の微小集合体はサイズの増大とともに転位ループとしての性質をもち、移動の活性化エネルギーも低いなどの結果が得られた。また、今後の課題も明らかにした。

論文

Damage analysis of vanadium irradiated with 14MeV-neutrons

有賀 武夫; 片野 吉男; 鈴木 建次; 池田 裕二郎; 中村 知夫; 白石 健介

Journal of Nuclear Materials, 133-134, p.667 - 670, 1985/00

 被引用回数:0 パーセンタイル:0.02(Materials Science, Multidisciplinary)

核融合炉炉物理用中性子源の14MeV中性子を室温で3.0$$times$$10$$^{1}$$$$^{9}$$/n$$^{2}$$まで照射した純バナジウム試料中の欠陥集合体の分布を電子顕微鏡で観察し第1次ノックオン原子(PKA)のエネルギー分布との関係を調べた。欠陥集合体は、孤立した3~15nmのものと70nmの大きさの領域に数個のサブカスケードに分割した大きさ5~15nmの集合体が特徴的に観察された。集合体の数密度は2$$times$$10$$^{2}$$$$^{1}$$/m$$^{3}$$であるが、個々のカスケード(1つのPKAに起因)としてはその1/2程度である。これは3$$times$$10$$^{1}$$$$^{9}$$/m$$^{2}$$まで照射したバナジウム中のPKA密度の約1/4に相当する。さらに、最も頻度高く観察された10~15nmの大きさの集合体は、2体衝突近似の格子照射損傷計算の結果から、約20KeVのPKAによるものと推定され、典型的なサブカスケードに分割した集合体は100~数百KeVのPKAに起因している。これはPKAのエネルギー分布で100~400KeVのPKAが約50%を占めることと顕著な相関を示すものと認められた。

論文

Nature of defect clusters in electron irradiated germanium and silicon

古野 茂実; 出井 数彦; 大津 仁; 西田 雄彦

Proc.5th Int. Conf.on High Voltage Electron Microscopy, p.567 - 570, 1977/08

常温から500$$^{circ}$$Cにわたって電子線照射されたSiとGe中に形成された欠陥集合体について調べた。比較的低温で形成される欠陥は両物質とも板状であり、250$$^{circ}$$C以上の高温照射では$$<$$110$$>$$方向に延びた線状の欠陥であることが認められた。線状の欠陥については電子顕微鏡による像解析の結果interstitial型であることが認められた。板状欠陥については欠陥の性質から像解析の方法が困難であったので、その他の実験からvacancy型であると認めた。さらにこれらの欠陥の形成機構について議論した。

3 件中 1件目~3件目を表示
  • 1